掌握EDA的美國，掌握光刻設(shè)備的荷蘭，再加上掌握材料的日本，這三者聯(lián)合，基本控制了、全球高端半導(dǎo)體硅基芯片制造的命脈了。這些天，好些朋友都在關(guān)心，如果它們真的聯(lián)合起來打壓我們，我們能否成功突圍呢？

可以確定，如果它們真得做出違反WTO多邊貿(mào)易協(xié)定，干出這種流氓的事來，對(duì)我們5nm及更高制程的高端芯片制造的影響，還是很大的。因?yàn)橐恢币詠?，基于全球化分工的國際貿(mào)易規(guī)則下，任何國家都會(huì)遵循經(jīng)濟(jì)市場(chǎng)，并發(fā)展適合自己，更有優(yōu)勢(shì)的產(chǎn)業(yè)。誰也沒有想到今天，國際關(guān)系會(huì)發(fā)展到這種越來割裂的地步。而自從我們?nèi)ツ旯傩?、能自主生產(chǎn)14nm制程的芯片后，目前限制我們的最大困難，是沖擊7nm的先進(jìn)制程了。

而今天，我們就重點(diǎn)聊聊日本材料，及我們有哪些可替代方案的問題。日本在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，最大的優(yōu)勢(shì)，正是半導(dǎo)體的材料，比如：芯片制造環(huán)節(jié)中所需的，第一、基底材料中的硅片，第二、很多“底片”的伴侶，也就是光刻膠，第三、光刻機(jī)的“底片”叫光掩膜，第四、用作清洗劑和刻蝕劑的濕法電子化學(xué)品，第五、去除雜質(zhì)并實(shí)現(xiàn)化學(xué)反應(yīng)的特種電子氣體，第六、CVD和沉積設(shè)備用到的拋光液，第七、給芯片提供微量元素的靶材。針對(duì)這些，我們就來逐一分析。

第一、在“硅片”上，日本的信越化學(xué)和SUMCO兩家企業(yè)，占了近50%的市場(chǎng)份額，我們國內(nèi)所有相關(guān)企業(yè)加起來，目前還不到5%。

而我們?cè)?2英寸的大硅片這一塊，國內(nèi)是有一定的抵抗能力的，因?yàn)?2英寸大硅片，我們?cè)缇涂梢宰约荷a(chǎn)了。所以，硅片這一塊，對(duì)我們沖擊7nm芯片，影響不大；

第二、在“光刻膠”上，四家日本企業(yè)——JSR、信越化學(xué)、東京應(yīng)化、住友化學(xué)，占比超過了75%。而目前影響我們現(xiàn)階段的14nm基至7nm的ArF光刻膠，國內(nèi)企業(yè)，在今年已經(jīng)有突破了，更高端的EUV光刻膠，也正開發(fā)中，所以，國產(chǎn)光刻膠的穩(wěn)定投產(chǎn)，還有待進(jìn)一步驗(yàn)證，但至少我們看到了，我們可以突破它，并用在沖擊7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的進(jìn)程中了；

第三、在“光掩膜”上，同樣是美國和日本形成了壟斷，而國內(nèi)半導(dǎo)體光掩膜企業(yè)，主要是清溢光電和路維光電，但目前，還停留在180nm工藝的節(jié)點(diǎn)上，所以，這一塊，我們?cè)谙冗M(jìn)制程方面，還差得很遠(yuǎn)，如要生產(chǎn)7nm制程的芯片，只能尋求，除美國日本外的其它國外企業(yè)來合作了；

第四、在“濕電子化學(xué)品”上，目前只查到2020年的數(shù)據(jù)，我們國內(nèi)占比18%。國際上劃分5個(gè)標(biāo)準(zhǔn)，在2020年，我們國內(nèi)最高是G3級(jí)別，而現(xiàn)在，據(jù)業(yè)內(nèi)人士介紹，已經(jīng)能達(dá)到G4了，年內(nèi)也有能力試產(chǎn)G5的標(biāo)準(zhǔn)了，所以，這一塊，對(duì)我們生產(chǎn)7nm制程的芯片，G4標(biāo)準(zhǔn)是能夠達(dá)到的，沒有影響；

第五、在“電子氣體”上，這一塊，國內(nèi)企業(yè)完全沒有問題了，你看，華特氣體，光刻氣已經(jīng)獲得ASML認(rèn)證，已批量供應(yīng)14nm、7nm等產(chǎn)線了。所以這一塊，也沒有問題；

第六、在“拋光液”上，目前全球拋光液市場(chǎng)，主要由美日廠商壟斷，在2021時(shí)，安集科技的公告顯示，10-7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)產(chǎn)品，正處于研發(fā)過程中，而目前打聽到的消息，其CMP拋光液、和光刻膠去除劑，已經(jīng)達(dá)到7nm的技術(shù)節(jié)點(diǎn)了。所以這一塊，也沒有影響；

第七、在“靶材”上，全球靶材市場(chǎng)，日美在高端靶材領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)明顯。國內(nèi)企業(yè)市場(chǎng)份額很低，但好消息是，已經(jīng)在高端靶材方面，我們有突破了，這樣話，這一塊，也沒有什么影響了。

所以，基于如上半導(dǎo)體制造的流程中，我們就能看出來，如果日本材料斷供了，對(duì)我們的供應(yīng)鏈，肯定有影響了，但現(xiàn)階段，我們沖擊7nm節(jié)點(diǎn)的制程，影響沒有那么大，如果現(xiàn)在想要再?zèng)_擊更高階的5nm的話，那影響就很大了，但是，材料方面，我們自主科技企業(yè)，完全有信心，也有能力跟上的，所以，前道的光刻設(shè)備，也就是ASML這樣的光刻機(jī)了，依然是阻礙我們沖擊更高端的5nm、甚至4nm的最大的障礙。后續(xù)我們將會(huì)持續(xù)關(guān)注、自主芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈相關(guān)的信息，甚至包括其它賽道的光子芯片、量子芯片，以及碳基芯片，我們都希望中國科技產(chǎn)業(yè)，能夠盡快擺脫關(guān)卡，讓世界再次看到，中國的力量。