大家都喜歡討論彎道超車，的確，在二十年前，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的確遇到過兩個彎道超車的機會：

第一個就是半導(dǎo)體工藝從平面到3D的轉(zhuǎn)變，F(xiàn)inFET的崛起奠定了今天臺積電的宏圖偉業(yè)；

第二個是EUV光刻機取代DUV光刻機的顛覆性轉(zhuǎn)變，EUV光刻機的崛起奠定了今天ASML的宏圖偉業(yè)。

不過我們似乎并沒有集中力量討論，為何二十年前的兩次彎道超車的機會，一個發(fā)生在中國臺灣，另一個發(fā)生在歐洲荷蘭，卻都被內(nèi)地的工業(yè)界完美錯過了。

最近，《中國科學(xué)院院刊》刊載了駱軍委、李樹深的文章《加強半導(dǎo)體基礎(chǔ)能力建設(shè) 點亮半導(dǎo)體自立自強發(fā)展的“燈塔”》，文章指出：

由于西方制裁，包含下一代半導(dǎo)體工藝GAA制程有關(guān)的PDK的EDA工具對中國全面封鎖，我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展進入“黑暗森林”。

這其實是沒有辦法的事情，因為有一個半導(dǎo)體界的彎道超車工藝--GAA所依賴的制程，又幾乎是與西方壟斷的EUV光刻機深度綁定的。

然而，對于文中的問題，我們始終沒有答案：

是誰導(dǎo)致了我國決策者、政府人員甚至產(chǎn)業(yè)界都認為，沒有半導(dǎo)體基礎(chǔ)研究也可以發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)？

如果我們不能夠清晰的問答這個問題，既不能找到發(fā)展的方向，更不能保證下一步的發(fā)展不會繼續(xù)被錯誤的判斷誘導(dǎo)！

當(dāng)然，對于“黑暗森林”，簡體中文自媒體也是可以搞定的，因為畢竟他們可以手工完成0.85納米芯片，以后臺積電和ASML就只能“家里蹲”了。

我曝光了無數(shù)的浮夸沸騰自媒體，后來發(fā)現(xiàn)他們在網(wǎng)絡(luò)存在的時間已經(jīng)很久了。

其實這幾個自媒體的文章，根本不需要動腦子，只需要每天改幾個關(guān)鍵詞就可以循環(huán)播放了，比如“北大光刻機”改成“中國碳芯片”、“清華EUV光源”、“哈工大極紫外光刻機”、“長光所EUV整機”、“上海光機所DUV光學(xué)集成”、“中科院鍍膜機”，文中內(nèi)容沒所謂，因為網(wǎng)民需要的是自嗨，滿足了自嗨的補血功能就可以了。

但是，就更深層次的問題而言：為什么我們的社會輿論全部是這種浮夸沸騰的文字呢？

是浮夸沸騰的科技嗨文的誘導(dǎo)，誤導(dǎo)了我國決策者、政府人員甚至產(chǎn)業(yè)界都認為，沒有半導(dǎo)體基礎(chǔ)研究也可以發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)？

還是由于我國的決策者、政府人員甚至產(chǎn)業(yè)界的盲目樂觀和錯誤判斷，促成了與之匹配的浮夸沸騰輿論和其生存土壤？

我想，在面對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)面對的“黑暗森林”困局的時候，有必要重新審視這個嚴肅的問題。