文丨徐濤 王子源

美國或?qū)⑹站o對華半導(dǎo)體設(shè)備限制，我們預(yù)計或仍針對先進制程。此外，荷蘭政府近期披露了半導(dǎo)體技術(shù)出口限制的部分細(xì)節(jié)，有望在二季度落地，ASML預(yù)計主要針對NXT:2000i和后續(xù)的光刻設(shè)備，國內(nèi)應(yīng)用較多的NXT:1980Di系列有望正常出口，符合我們此前預(yù)期。建議關(guān)注成熟制程擴產(chǎn)持續(xù)、國產(chǎn)替代力度有望加大背景下的半導(dǎo)體設(shè)備/材料/零部件/制造環(huán)節(jié)。

事件：

1）彭博社報道稱美國或?qū)⑦M一步收緊對華半導(dǎo)體限制：據(jù)The business times援引彭博社3月11日的報道，美國拜登政府正計劃進一步收緊對中國出口半導(dǎo)體制造設(shè)備的限制，這將是在2022年10月對華半導(dǎo)體出口管制基礎(chǔ)上的進一步升級。

2）荷蘭計劃在夏季前推出半導(dǎo)體限制政策，ASML表態(tài)只影響部分高規(guī)格光刻機：據(jù)路透社報道，荷蘭當(dāng)?shù)貢r間3月8日，荷蘭貿(mào)易部長Liesje Schreinemacher在致議會函中透露，荷蘭半導(dǎo)體技術(shù)出口限制將在夏季之前實施；當(dāng)日ASML在官網(wǎng)發(fā)布公告回應(yīng)稱預(yù)計限制僅適用于“最先進”設(shè)備，此舉不會對公司2023年或者長期的財務(wù)表現(xiàn)產(chǎn)生重大影響。

點評：

▍美國或?qū)⑻岣邔θA半導(dǎo)體設(shè)備限制門檻，我們預(yù)計或仍針對國內(nèi)先進制程。

彭博社報道稱，美國政府已經(jīng)向美國公司簡要介紹了該計劃，并稱預(yù)計最早將在下個月宣布新的限制措施；這一限制旨在阻止中國發(fā)展先進芯片產(chǎn)業(yè)，可能會使出口到中國的需要特殊出口許可證的半導(dǎo)體設(shè)備數(shù)量增加一倍，將為應(yīng)用材料等美國半導(dǎo)體設(shè)備制造商在華銷售產(chǎn)品帶來新的障礙。我們認(rèn)為，美方與中國大陸在半導(dǎo)體成熟制程產(chǎn)業(yè)鏈依存度較高，未來仍有充分經(jīng)濟合作空間，若貿(mào)然限制可能影響應(yīng)用材料等美國企業(yè)利益，同時影響全球芯片供應(yīng)鏈穩(wěn)定性，而在先進制程核心科技領(lǐng)域或?qū)⒗^續(xù)切割，我們認(rèn)為后續(xù)針對成熟制程設(shè)備進行限制的可能性較小，可能細(xì)化拓展限制設(shè)備種類。同時，我們認(rèn)為雖然短期美方在先進技術(shù)領(lǐng)域的制裁可能導(dǎo)致部分中國企業(yè)經(jīng)歷陣痛，但不會改變我們長期自主化并走向高端的發(fā)展方向，有望加快推進中國的產(chǎn)業(yè)自立。長期而言中國大陸有望培育出一套自給自足的產(chǎn)業(yè)鏈體系，這個過程中將蘊含諸多國產(chǎn)化機會。

▍ASML預(yù)計荷蘭限制將主要針對TWINSCAN NXT:2000i和后續(xù)的高端DUV光刻設(shè)備，不影響NXT:1980Di及之前的DUV光刻設(shè)備型號，符合我們此前預(yù)期。

根據(jù)荷蘭政府最新披露信息，荷蘭公司ASML與ASMI后續(xù)需針對先進設(shè)備申請出口許可證，“限制措施只會包括可以制造最小、最強大芯片的非常高規(guī)格的設(shè)備，包括ASML制造的一些深紫外（DUV）光刻機。”根據(jù)ASML官網(wǎng)公告，荷蘭政府的新出口管制措施僅適用于“最先進”工具，但ASML還未收到有關(guān)“最先進”的明確定義。ASML在資本市場日中將其定義為TWINSCAN NXT:2000i和后續(xù)的“關(guān)鍵浸沒式”（critical immersion）光刻設(shè)備。此外，ASML回應(yīng)稱，預(yù)計此舉不會對公司2023年或者長期的財務(wù)表現(xiàn)產(chǎn)生重大影響。我們在1月31日的《美聯(lián)合日荷加碼設(shè)備限制，倒逼半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化加速》點評中預(yù)計，日荷限制大概率不會超過美國對華出口限制的先進制程范圍，并預(yù)計浸沒式DUV光刻機完全對華禁售可能性較小。從ASML官網(wǎng)回應(yīng)來看，NXT1980Di及之前的浸沒式DUV機型不在限制范圍之內(nèi)，這符合我們的預(yù)期。

▍國內(nèi)最為主流的、針對成熟制程應(yīng)用較多的ASML NXT1980Di光刻機有望正常獲得，我們預(yù)計國內(nèi)晶圓廠的成熟制程擴產(chǎn)正常推進。

據(jù)芯智訊稱，NXT:1980Di 雖然分辨率在38nm左右，但是依然可以通過多重曝光支持到7nm左右，臺積電的第一代7nm工藝也是基于 NXT:1980Di 實現(xiàn)的，不過這樣使得步驟更為復(fù)雜、成本更高、良率可能也會有損失。但是我們認(rèn)為，為了滿足荷蘭政府的限制條件，ASML可能會采取一些硬件和軟件方式阻止國內(nèi)客戶使用多重曝光工藝實現(xiàn)先進制程，例如降低套刻精度等方式。我們預(yù)計國內(nèi)晶圓廠的成熟制程擴產(chǎn)后續(xù)有望政策推進，同時晶圓廠從產(chǎn)業(yè)鏈安全角度可能會加大對于國內(nèi)設(shè)備的驗證采購力度，國內(nèi)設(shè)備及零部件廠商有望受益。

▍風(fēng)險因素：

后續(xù)對華半導(dǎo)體技術(shù)限制加大風(fēng)險；先進技術(shù)創(chuàng)新不及預(yù)期；國際產(chǎn)業(yè)環(huán)境變化和貿(mào)易摩擦加劇風(fēng)險；先進制程技術(shù)變革風(fēng)險；下游需求波動。

▍投資策略：

國內(nèi)成熟制程有望正常推進擴產(chǎn)，短期建議關(guān)注若國內(nèi)擴產(chǎn)和國產(chǎn)化進度超預(yù)期可能性下，受益的相關(guān)設(shè)備、零部件公司，同時關(guān)注美國、日本及荷蘭廠商占有領(lǐng)先地位的、需加大國產(chǎn)替代力度的設(shè)備/材料環(huán)節(jié)。建議關(guān)注半導(dǎo)體制造-設(shè)備-零部件全產(chǎn)業(yè)鏈自主化。

本文源自券商研報精選