ASML的DUV光刻機

大家都知道美弟對我國的半導體產(chǎn)業(yè)進行了制裁，企圖阻止我國半導體產(chǎn)業(yè)向更先進水平發(fā)展。已經(jīng)對我國半導體生產(chǎn)線上使用的制造設備、材料、軟件等進行了多輪技術(shù)封鎖。為了半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展不被卡脖子，我們就必須對被封鎖的產(chǎn)品和技術(shù)進行國產(chǎn)化。我國現(xiàn)有的半導體生產(chǎn)線是含有美國技術(shù)的，可以稱為含美生產(chǎn)線。自主化程度提高一點，可以用國產(chǎn)設備或者其它國家的設備完成替代的半導體生產(chǎn)線，可以稱之為去美化生產(chǎn)線。如果全部都是國產(chǎn)化設備和技術(shù)的可以稱為國產(chǎn)化生產(chǎn)線。

28納米裝備國產(chǎn)化獲獎

當然眼下我們還無法實現(xiàn)全國產(chǎn)化的生產(chǎn)線，其實也不必那么做。只要我們能繞開美國的制裁，能夠?qū)崿F(xiàn)去美化的生產(chǎn)線就足夠了。除美國外的其它國家生產(chǎn)的設備、材料、軟件，只要沒有被封鎖照樣也可以拿來用。不過目前國內(nèi)半導體業(yè)界對國產(chǎn)化的相關信息管理非常嚴格，我們很難知道國產(chǎn)化的進度。只能通過一些獲獎信息、業(yè)界只言片語的透露來了解相關情況。比如上圖的獲獎信息，提到了28納米裝備國產(chǎn)化，而且是產(chǎn)業(yè)鏈合作的成果。那么是不是國產(chǎn)28納米DUV已經(jīng)研制成功了呢？官方并沒有明確的消息。

暢享60申報入網(wǎng)時的證件照

盡管如此我們還是能夠找到一個窗口，透過這個窗口可以一窺我國半導體生產(chǎn)線國產(chǎn)化的情況。這個窗口就是一部手機，華為的暢享60。3月23日華為將召開發(fā)布會，正式發(fā)布這款手機。這款手機并不是什么高檔手機，只是一部千元級的低端手機。暢享60之所引起我們的關注，是因為經(jīng)歷過多輪封鎖打壓之后，華為的麒麟芯片有可能要回歸了，就在這部手機上。已經(jīng)有數(shù)碼產(chǎn)品博主拿到了這部手機，透露出了部分信息。我們最感興趣的就是暢享60的SOC，這顆處理器名字叫做Octa core，按意思翻譯過來就是8核的意思，安兔兔跑分23.3萬。

剩下的事情就看發(fā)布會到時會如何介紹這顆八核處理器了，如果確認這是一塊華為的麒麟芯片。那足以證明華為的麒麟芯片在美弟的多倫打壓下，還是活下來了。我們只要注意一下這部手機上市之后的銷量，就知道國內(nèi)去美化半導體生產(chǎn)線的發(fā)展水平了。

暢享60的處理器名字叫做Octa core

因為在所有企業(yè)當中，華為是被打壓最嚴重的，國內(nèi)的半導體生產(chǎn)線被禁止使用美國的技術(shù)為華為生產(chǎn)產(chǎn)品。麒麟芯片如果能夠繼續(xù)生產(chǎn)，就意味著國內(nèi)去美化的半導體生產(chǎn)線已經(jīng)打通，可以給華為供貨了。如果這部手機能有幾百萬的出貨量，那就意味著國內(nèi)去美化生產(chǎn)線已經(jīng)可以大批量生產(chǎn)了。剩下的看點就是這顆處理到底是多少納米制程的產(chǎn)品，到底是28納米還是14納米的制程。我們就可以知道國內(nèi)去美化的半導體生產(chǎn)線能夠達到什么樣的工藝水平。即使發(fā)布會不說是什么制程的工藝，一旦開始銷售，拆機之后總是會曝光的。其實只要確定麒麟芯片在暢享60上回歸，無論是28納米還是14納米的制程。都意味著華為已經(jīng)以某種方式躲開了美弟的封鎖，不用依賴美弟的芯片，就可以獨立自主地發(fā)展自己的手機業(yè)務了。

即使這顆Octa core處理器只是28納米制程，對我們來說也是意義非凡的。因為此前我國光刻機的水平長期停留在90納米。還不能生產(chǎn)制造28納米以及更先進制程芯片的DUV光刻機。DUV光刻機可以分為干式和浸沒式光刻機兩類，干式DUV光刻機最多只能用于生產(chǎn)65納米制程芯片。而要想制造28納米芯片就必須使用更先進的28納米浸沒式DUV光刻機。而28納米浸沒式DUV光刻機正是美弟最近開始加碼對我們禁運的產(chǎn)品。即使以前賣到國內(nèi)的28納米浸沒式DUV光刻機，也被禁止為華為生產(chǎn)芯片。華為如果可以繼續(xù)拿到麒麟芯片，就意味著國產(chǎn)28納米制程DUV浸沒式光刻機已經(jīng)研制成功了。

哈工大研制成功皮米級測量精度的平面激光干涉儀

如果國產(chǎn)28納米制程DUV浸沒式光刻機研制成功，那么研制國產(chǎn)14納米DUV光刻機和7納米DUV光刻機就已經(jīng)沒有障礙了。因為后兩種光刻機和28納米DUV浸沒式光刻機并沒有什么本質(zhì)的區(qū)別，唯一的區(qū)別就是控制精度提高了。光刻機的鏡頭、光源都不要修改，需要修改的只是雙工件臺的測量設備。而這個測量設備恰恰在去年年底取得了技術(shù)突破。哈工大研制成功了平面光柵激光干涉儀，可以實現(xiàn)皮米級別的高精度測量。完全可以滿足28納米、14納米、7納米DUV光刻機，乃至EUV光刻機的需求。這就意味著研制成功14納米、7納米制程DUV光刻機只剩下時間問題了。為我們的科技工作者點贊吧！

國產(chǎn)DUV光刻機最后一個難關突破，14納米光刻機年內(nèi)有望量產(chǎn)

國產(chǎn)EUV光刻機關鍵技術(shù)都已掌握，研制成功只是時間問題